基本情况

姓名：董丹

出生年月：1988年2月

职称：讲师

邮箱：dongdan@xaut.edu.cn

学习及工作经历

2007.09-2011.07永利集团，77779193永利集团，学士

2011.09-2014.03永利集团，77779193永利集团，硕士

2014.03-2018.12永利集团，77779193永利集团，博士

2019.06至今，永利集团，材料工程实验中心，讲师

研究方向

微弧离子镀技术原理研究

碳基离子镀层性能调控机理研究

发表的论文

[1] D. Dong, B.L. Jiang, H.T. Li, Y.Z. Du, C. Yang. Effect of graphite target power density on tribological properties of graphite-like carbon films. Applied Surface Science, 2018, 439: 900-909. (SCI: 000427457100108, IF 4.439)

[2]董丹,蒋百灵,郭萌,杨超.碳基非晶镀层的纳米晶诱发机理及其摩擦学性能研究.金属学报, 2017, 53: 879-887. (SCI: 000408285400013, IF 1.214)

[3]董丹,时惠英,蒋百灵,鲁媛媛,张岩. PH₃/SiH₄气流量比对N型a-Si:H薄膜微观结构与电学性能的影响.硅酸盐学报, 2013,41 (12): 1668-1673. (EI: 20140217179545)

[4]时惠英,董丹,蒋百灵,鲁媛媛,刘宁.硼掺杂量对P型a-Si:H膜微结构和光/电学性能的影响.硅酸盐学报, 2013,41 (3): 364-369. (EI: 20131916319287)

[5] C. Yang, B.L. Jiang, D. Wang, B. Huang, D. Dong. Influence of peak target power densities on the microstructure and properties of nanocrystalline Ti films deposited by modulated pulsed power magnetron sputtering. Rare Metal Materials and Engineering, 2018. (SCI)